May 29, 2025 Остави поруку

Волфстен циљна чистоћа вс танталум циљна чистоћа

Зхенан Тунгстен Циљани ПДФ документ производа, кликните за преузимање

 

Волфстен циљни материјал
Поље полуводича обично захтева чистоћу веће од или једнак 99,95% (3Н5) и производња врхунског чипа захтева 99.9995% (5Н5).
Индустријске апликације (као што су премазе и алати за сечење) могу прихватити чистоћу од 99,9% (3Н).

Танталум циљни материјал
Основна употреба чистоћа је већа или једнака 99,9% (3Н), док полуводичко поље обично захтева 99,995% (4Н5) на 99.999% (5Н).
Електронске компоненте као што су кондензатори чак захтевају више од 99.9995% (5Н5).

 

Зхенан тунгстен циљни детаљи производа Слика Екран

 

High Purity Tungsten Sputtering Target manufacture
волфрам циља
High Purity w Sputtering Target company
Волфстен циљни метал

Зхенан ТУНГСТЕН ТРЕНУТ Табле параметара производа

Чистоћа (ВТ%) Густина (%) Величина зрна (μм) Димензија (макс.) По
99.995 Већи или једнак 19.18 ﹤50 18"x 0.4" Мање од или једнако 1,6
99.999 Већи или једнак 19.18 ﹤50 18"x 0.4" Мање од или једнако 1,6

 

Ако имате друге потребе производа, контактирајте нас, молим вас оставите поруку: sales@zanewmetal.com Е-маил, одговорићемо вам што је пре могуће ~

Pošalji upit

Dom

Telefon

E-pošta

Istraga